半導體內(nèi)部是由長達數(shù)萬米的金屬配線而組成，而濺射靶材則是用于制作這些配線的關(guān)鍵消耗材料。如蘋果A10處理器，指甲蓋大小的芯片上密布著上萬米金屬導線，這些密布的電路必須要對高純度的金屬靶材通過濺射的方式形成。濺射靶材是半導體晶圓制造環(huán)節(jié)核心的高難度材料，芯片對濺射靶材的要求非常之高，要求靶材純度很高，一般在5N（99.999%）以上。5N就是表示有5個9，4N表示有4個9即99.99%，哪個純度更高，一看就明白了。在提純領(lǐng)域，小數(shù)點后面每多一個9，難度是呈指數(shù)級別的增加，技術(shù)門檻也就更高。隨著芯片的使用范圍越來越廣泛，芯片市場需求數(shù)量增長，對于鋁、鈦、鉭、銅這四種業(yè)界主流的薄膜金屬材料的需求也一定會有增長。且目前從技術(shù)上及經(jīng)濟規(guī)模上還未找到能夠替代這四種薄膜金屬材料的其他方案，所以這四種材料目前看不到被替代的風險。

尤特新材料的高純旋轉(zhuǎn)銅管靶和旋轉(zhuǎn)鋁管靶成功在國內(nèi)數(shù)家TFT G8.5 線上量產(chǎn)使用，成功實現(xiàn)國產(chǎn)化。尤特新材料生產(chǎn)靶材產(chǎn)品主要應(yīng)用在：建筑/汽車玻璃工業(yè)、薄膜太陽能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)、表面修復工業(yè)。

主要產(chǎn)品有：旋轉(zhuǎn)銀靶、旋轉(zhuǎn)鋁靶、旋轉(zhuǎn)鋅鋁靶、旋轉(zhuǎn)鋅錫靶、旋轉(zhuǎn)鈮靶、旋轉(zhuǎn)銅靶、旋轉(zhuǎn)鈦鋁管靶、旋轉(zhuǎn)硅鋁靶、旋轉(zhuǎn)氧化鈮靶、旋轉(zhuǎn)氧化鈦靶、旋轉(zhuǎn)硅靶、旋轉(zhuǎn)鉻靶、旋轉(zhuǎn)鋯靶、平面銀靶、平面鉻靶、平面硅靶、平面鈦靶、平面鈦鋁靶、平面鎳鉻靶、平面鉬鈮靶、平面鋁合金靶等。并為客戶提供量身定做及靶材綁定的服務(wù)。

目前全球高端靶材市場主要分布于韓國、寶島、中國、日本，主要供應(yīng)商在日本，韓國。中國市場目前年消耗ITO靶材約300噸，而且處于快速增長之中未。來靶材產(chǎn)品會廣泛應(yīng)用于計算機硬盤、半導體、TFT平面顯示、手機、低輻射玻璃等行業(yè)，我們立志為靶材的國產(chǎn)化作出了重要貢獻，任重而道遠。

主營行業(yè)：化工原料、輔料//玻璃油墨 化工原料、輔料//其它 公司注冊地址：廣州市尤特新材料有限公司 法人代表：周志宏
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