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供應(yīng)標(biāo)題:高純鈮靶材,光學(xué)用鈮靶材,鈮靶材源頭廠家,鈮靶價(jià)格
價(jià)格:電儀
發(fā)布公司:廣州市尤特新材料有限公司
供貨總量:9999
聯(lián)系人:楊永添
發(fā)貨地點(diǎn):廣東 廣州 花都區(qū)
發(fā)布時(shí)間:2024年08月23日
有效期至:2025年09月12日
在線詢盤:在線詢盤
產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:未計(jì)算
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半導(dǎo)體材料可以分為晶圓材料和封裝材料,封裝材料相較于晶圓制造材料來(lái)說(shuō)技術(shù)壁壘相對(duì)較低,所以我們主要講的是晶圓制造材料。半導(dǎo)體材料市場(chǎng)占比在3%左右的濺射靶材。簡(jiǎn)單地說(shuō),靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,通過(guò)更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)?萍既?qǐng)?bào):ITO靶材是35項(xiàng)卡脖子技術(shù)之一。2018年,尤特成立ITO靶材部,目前已量產(chǎn)達(dá)到國(guó)際水平的ITO靶材,打破國(guó)外對(duì)ITO靶材的壟斷,為客戶提供磁控濺射鍍膜行業(yè)全棧式服務(wù)。
國(guó)內(nèi)濺射靶材制造水平達(dá)到先進(jìn)水平,但規(guī)模和體量尚小,目前處于快速成長(zhǎng)階段。濺射靶材行業(yè)在我國(guó)起步較晚,目前仍然屬于一個(gè)較新的行業(yè)。近年來(lái),隨著下游產(chǎn)業(yè)向轉(zhuǎn)移,國(guó)產(chǎn)靶材已開始實(shí)現(xiàn)打破。預(yù)計(jì)2022年大部分國(guó)家顯示面板整體規(guī)模將超1300億美元,LCD面板占比約70%。中小尺寸OLED滲透率快速提升,大尺寸LCD占據(jù)主流。顯示面板是靶材下游較大的應(yīng)用領(lǐng)域。平板顯示行業(yè)主要在液晶顯示面板(LCD)和觸控屏面板兩個(gè)產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節(jié)使用靶材。隨著顯示屏玻璃基板以及一些設(shè)備顯示屏的尺寸逐漸加大,顯示面板用靶材的需求也不斷加大。到2023年,國(guó)內(nèi)顯示面板用靶材市場(chǎng)規(guī)模有望達(dá)到246億元,占大部分國(guó)家比例達(dá)到46%。光伏靶材的主要需求來(lái)自薄膜光伏電池和異質(zhì)結(jié)(HIT)電池市場(chǎng)規(guī)模的擴(kuò)張。
太陽(yáng)能電池主要包括晶體硅太陽(yáng)能電池和薄膜太陽(yáng)能電池, PVD 工藝主要應(yīng)用于薄膜太陽(yáng)能電池中。晶體硅太陽(yáng)能電池效率較高、性能穩(wěn)定,且各個(gè)產(chǎn)業(yè)環(huán)節(jié)比較成熟,占據(jù)了太陽(yáng)能電池市場(chǎng)的地位。與晶體硅太陽(yáng)能電池相比,薄膜太陽(yáng)能電池材料用量大大減少,從而大幅降低了制造成本和產(chǎn)品價(jià)格,同時(shí),薄膜太陽(yáng)能電池還具有制造溫度低、應(yīng)用范圍大等特點(diǎn)。21 世紀(jì)以來(lái),光伏產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展。近年來(lái),隨著國(guó)家對(duì)環(huán)境保護(hù)、節(jié)能減排方面的重視,我國(guó)太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)在太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展的帶動(dòng)下飛速發(fā)展。太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展也給太陽(yáng)能電池用濺射靶材市場(chǎng)帶來(lái)了巨大的成長(zhǎng)空間, 2015 年太陽(yáng)能電池用濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模達(dá) 18.5 億美元,比 2014 年增長(zhǎng) 21.7%。目前國(guó)內(nèi)太陽(yáng)能電池主要以硅片涂覆型太陽(yáng)能電池為主,薄膜電池的產(chǎn)量較小,因此濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模仍較小, 2015 年為 7.5 億元。太陽(yáng)能電池行業(yè)仍然處于產(chǎn)業(yè)上升階段,隨著國(guó)內(nèi)薄膜電池生產(chǎn)線的投產(chǎn),我國(guó)太陽(yáng)能電池用濺射靶材市場(chǎng)將持續(xù)增長(zhǎng)。管材。
光伏領(lǐng)域?qū)Π胁牡氖褂弥饕潜∧る姵睾虷IT光伏電池。其中光伏薄膜電池用靶材主要為方形板狀,純度要求一般在99.99%(4N)以上,僅次于半導(dǎo)體用靶材。目前制備薄膜電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等,HIT電池主要使用ITO靶材作為其透明導(dǎo)電薄膜。為了有效地降低磁控濺射的電壓,以達(dá)到降低ITO薄膜電阻率的目的,可以采用一套特殊的濺射陰極結(jié)構(gòu)和濺射直流電源,射頻電源合理地匹配疊裝在一套6KW的直流電源上,在不同的直流濺射功率和射頻功率下進(jìn)行降低ITO薄膜濺射電壓的工藝研究。RF DC新型電源的應(yīng)用和特殊濺射陰極結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)也能有效的降低ITO薄膜的濺射電壓。由于高能量電弧離子的作用導(dǎo)致ITO粒子中的In、Sn達(dá)到完全離化,從而增強(qiáng)沉積時(shí)的反應(yīng)活性,達(dá)到減少晶體結(jié)構(gòu)缺陷,電阻率的目的。材。
在安裝過(guò)程中不易變形,降低安裝難度,提高合格率。靶材按材料種類型分,可分為金屬靶材、合金靶材、化合物靶材。不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。氧化物薄膜材料在液晶面板、觸摸屏、薄膜太陽(yáng)能電池、發(fā)光二極管等產(chǎn)業(yè)上獲得了廣泛應(yīng)用。目前國(guó)內(nèi)氧化物薄膜材料的制備方法和技術(shù)有很多,其中主要的方法有脈沖激光沉積、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、分子束外延等物理方法。由于磁控濺射鐵磁性靶材的難點(diǎn)是靶材表面的磁場(chǎng)達(dá)不到正常磁控濺射時(shí)要求的磁場(chǎng)強(qiáng)度,因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強(qiáng)度,將鐵磁性靶材的厚度減薄是解決磁控濺射鐵磁材料靶材的常見(jiàn)方法。如果鐵磁性靶材足夠薄。
芯片制造設(shè)備,半導(dǎo)體材料對(duì)于芯片產(chǎn)業(yè)的重要性也是不言而喻。半導(dǎo)體材料可以分為晶圓材料和封裝材料,中國(guó)的半導(dǎo)體行業(yè)正處于成長(zhǎng)關(guān)鍵期,材料和技術(shù)仍依賴***,受到國(guó)際市場(chǎng)影響,圍繞半導(dǎo)體行業(yè)的焦慮在持續(xù)蔓延。2018年大部分國(guó)家半導(dǎo)體規(guī)模增速達(dá)12.4%。特別是存儲(chǔ)器市場(chǎng)。增速高達(dá)61.49%。一方面,存儲(chǔ)芯片需求旺盛,價(jià)格大幅上漲,另一方面,物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子、AI等新應(yīng)用拉動(dòng)下游需求。半導(dǎo)體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料,料包括硅片(37%)、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學(xué)品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等;、引線框架、樹脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域。美國(guó)、日本、荷蘭依然占主要地位。國(guó)內(nèi)的芯片制造與韓國(guó)和歐洲的企業(yè)相比都相距甚遠(yuǎn)。
而射頻濺射的使用范圍更為廣泛。除可濺射導(dǎo)電材料外。也可濺射非導(dǎo)電的材料,同時(shí)還可進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料,F(xiàn)在很多廠家對(duì)于真空鍍膜設(shè)備的維護(hù)保養(yǎng)都不是很清楚。真空鍍膜設(shè)備每完成200個(gè)鍍膜程序以上,應(yīng)清潔工作室一次。方法是:用****(NaOH)飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁,(注意人體外表不可以直接接觸****溶液,以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應(yīng),反應(yīng)后膜層脫落,并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。當(dāng)粗抽泵(滑閥泵,旋片泵)連續(xù)工作一個(gè)月(雨季減半),需更變新油。方法是:擰開放油螺栓,放掉舊油,再將泵啟動(dòng)數(shù)秒,使泵內(nèi)的舊油完全排放出來(lái)。
尤其適用于和氧化物靶材。真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)一般由三個(gè)部分組成:真空室、蒸發(fā)源或蒸發(fā)加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。在真空中為了蒸發(fā)待沉積的材料,需要容器來(lái)支撐或盛裝蒸發(fā)物,同時(shí)需要提供蒸發(fā)熱使蒸發(fā)物達(dá)到足夠高的溫度以產(chǎn)生所需的蒸汽壓。圖:真空蒸發(fā)鍍膜工作原理示意圖真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)具有簡(jiǎn)單便利、操作方便、成膜速度快等特點(diǎn),是應(yīng)用廣泛的鍍膜技術(shù),主要應(yīng)用于光學(xué)元器件、LED、平板顯示和半導(dǎo)體分立器的鍍膜。光學(xué)器件應(yīng)用范圍非常廣泛,主要包括智能手機(jī)、車載鏡頭、安防監(jiān)控設(shè)備、數(shù)碼相機(jī)、光碟機(jī)、投影機(jī)等,元器件及光學(xué)鏡頭。我國(guó)濺射靶材研發(fā)生產(chǎn)技術(shù)還存在一定差距,市場(chǎng)影響力相對(duì)有限,尤其在半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域。噴涂話。
尤供用應(yīng)的AZO靶材,出口多個(gè)國(guó)家,目前能
2024-07-14透明導(dǎo)電氧化物(TCO)薄膜因其導(dǎo)電性和透光
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