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用途:用于沖洗過濾液壓系統(tǒng)在制造、裝配、使用過程及維護時生成或侵入的污染物
英文名:Cleaning Machine
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在光電顯示領域,其液晶品種從TN→STN→TFT的逐步升級;從黑白到彩色,從低分辨率向高分辨率,從小屏幕到大屏幕的發(fā)展已成為必然趨勢。原有的超聲、化學清洗已不能滿足當前清洗潔凈度要求。 基本原理與傳統(tǒng)的清洗技術如化學法、物理法(例超聲波)不同,與新近發(fā)展的等離子體清洗、激光清洗等也有較大不同。主要是應用光化學原理與技術,技術關鍵在于特種大功率短波紫外、真空紫外光源。其原理為利用光子能量將有機物的高分子鏈、大分子鏈,斷裂成小分子、原子、自由基等;及將空氣中的氧分子變成臭氧O3。O3再經光子的作用產生激態(tài)氧原子O*,O*將斷裂后的有機物質強氧化變成CO, CO2,H2O等揮發(fā),隨排氣并排出,不留任何痕跡,屬干式法,無接觸型;常溫、常氣壓下無損傷,不使用任何化學藥品,環(huán)保無二次污染;對物體表面的較難清洗的油脂及有機污染物有特殊清洗效果。 大功率特種專用紫外光源是其中的關鍵技術,其波長已延伸到真空紫外波段.我公司經幾年攻關已完成多項專利技術,如:真空紫外光譜儀,大功率熱、冷陰極光清洗機專用光源,清洗效果測試設備等。 我公司的光清洗機系列產品,主要創(chuàng)新點是:寬溫區(qū)恒照度、大功率紫外光源、優(yōu)化氣氛控制的自控系統(tǒng)、自動化程度高、自凈化設計等。具有,工作穩(wěn)定,利用光子作用實現(xiàn)了對污染物的分解、氧化、氣化,并被排除. 本產品除用于液晶生產中需清洗的各道工序外,還有十分廣泛的領域如:ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理,在液晶顯示器件、半導體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等領域。
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